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KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀

簡要描述:KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀通過實時監控沉積過程,提供高精度、快速且非侵入式的測量解決方案,適用于多種半導體和電介質材料。其主要特點包括提高生產力、低成本、高精度及易用性。該系列產品覆蓋不同厚度和波長范圍,滿足多樣化測量需求。

產品型號:

所屬分類:薄膜厚度測量儀

更新時間:2025-03-10

廠商性質:生產廠家

詳情介紹

監控薄膜沉積,有力的工具

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀光譜反射率系統能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性。

樣品層

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,或輕度吸收的薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。

各項優點:

  • 極大地提高生產力

  • 低成本 —幾個月就能收回成本

  • A精確 — 測量精度高于 ±1%

  • 快速 — 幾秒鐘完成測量

  • 非侵入式 — 在沉積室以外進行測試

  • 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件

  • 幾分鐘就能準備好的系統

型號規格

型號厚度范圍波長范圍

F30

15nm-70μm
380-1050nm
F30-EXR15nm-250μm
380-1700nm
F30-NIR100nm-250μm950-1700nm
F30-UV
3nm-40μm190-1100nm
F30-UVX3nm-250μm190-1700nm
F30-XT
0.2μm-450μm1440-1690nm




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