TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室是高真空 TEM 樣品架儲(chǔ)存、泄漏檢查和等離子體清潔室

TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室可用于在高真空下存儲(chǔ)多達(dá) 8 個(gè) TEM 樣品架（極限真空在 10 -7 Torr 范圍內(nèi)）。真空度足夠高，可以檢查原位 TEM 芯片的泄漏。它還可以配備遠(yuǎn)程 EM-KLEEN 等離子源，以在腔室中進(jìn)行等離子清潔。腔室的大小為 9 英寸立方。它可以擬合相當(dāng)大的 TEM 和 SEM 樣品和組件。房間有一個(gè)玻璃前門用于觀察。

標(biāo)準(zhǔn)泵送配置是將腔室直接放置在 Pfeiffer 渦輪分子泵站的頂部。但也可以使用干式渦旋泵對腔室進(jìn)行泵送。

與我們的常規(guī) TEM 樣品架真空儲(chǔ)存站相比，TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室上的每個(gè)儲(chǔ)存端口都不能單獨(dú)通風(fēng)或抽氣，因?yàn)樗袃?chǔ)存端口共享同一個(gè)大真空室。取回 TEM 樣品架需要更長的時(shí)間，因?yàn)楸仨殞φ麄€(gè)腔室進(jìn)行通風(fēng)才能取回一個(gè)存放的 TEM 樣品架。

如果腔室上安裝了 EM-KLEEN 等離子體源，則可以使用 TEM 立方體對 TEM 樣品架和樣品進(jìn)行等離子清洗。但 EM-KLEEN 等離子源只能接受一個(gè)氣體輸入。獨(dú)立的 Tergeo-EM 等離子清洗機(jī)最多可使用三種工藝氣體。TEM 立方體的排氣和抽氣時(shí)間也比獨(dú)立的 Tergeo-EM 等離子體系統(tǒng)長。Tergeo-EM 等離子系統(tǒng)還具有全自動(dòng)作和更高的系統(tǒng)集成水平。

規(guī)格：

1. 極限真空度：10 -7 Torr 中

2. TEM 樣品架適配器：最多 8 個(gè)，每側(cè) 4 個(gè)。

3. 腔室尺寸：9 英寸 X 9 英寸 X 9 英寸。

4. 腔室門：帶鎖定旋鈕的鉸鏈玻璃窗。

5. 泵口：底部渦輪分子泵站為 ISO63。或 NW40/NW25 端口，用于干式渦旋泵。

6. NW40 或 NW25 端口，用于全量程壓力傳感器。

應(yīng)用：

1. 用于 TEM 樣品架、TEM 樣品和大型 EM 組件的高真空存儲(chǔ)。

2. 原位 TEM 樣品架和芯片泄漏檢查。

3. TEM 支架、樣品和組件的等離子清洗。

相關(guān)產(chǎn)品：

Tergeo-EM：集成的 TEM/SEM 等離子清洗劑，用于去除碳?xì)浠衔镂廴竞吞幚砝鋬鲭婄R網(wǎng)格和原位芯片。