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2Z-HVS-200 高真空封裝機

簡要描述:2Z-HVS-200 高真空封裝機
用于 MEMS(微機電系統)的封裝。兩種型號可選。溫度最高可達 450°C。上下加熱設計。真空環境下升溫降溫速率最高 20 K / 分鐘。水平方向自動開合。

產品型號:

所屬分類:2Z-HVS-200 高真空封裝機

更新時間:2025-07-15

廠商性質:生產廠家

詳情介紹

2Z-HVS-200 高真空封裝機


2Z-HVS-200 高真空封裝機


應用領域

● MEMS(微機電系統)的密封及熱封裝

● 吸氣劑激活

(在真空系統內部沉積反應性材料)

● 在雙溫區熱處理過程中實現元件分離

產品特點

● 上下加熱

● 最多 4 條內部氣體管路

● 數據記錄功能

● 真空度可達 10??百帕

● 配備西門子 SIMATIC® 控制器

● 通過 360°C 光學過程控制


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應用場景

2Z-HVS 是一款高真空密封設備,可對 MEMS 進行氣密性密封。


在密封前,電子元件可在兩個加熱區中進行處理,每個加熱區的溫度不同,最高可達 450°C。這一功能也可用于吸氣劑激活。該設備最多可同時處理 6 個封裝件。其核心特點是零件的自動定位與密封 —— 密封時,兩個部件必須處于相同溫度。不同升溫和 / 或降溫速率的控制曾是一項艱巨的任務,如今已得到解決。


工藝氣體

該系統可使用標準工藝氣體,如氮氣、氧氣、形成氣等。


流量計

默認配置 1 條帶質量流量控制器(MFC)的氣體管路,還可額外增加 3 條氣體管路(可選配質量流量控制器)。


真空性能

系統真空度可達 10??百帕。


溫度

最高可達到的溫度為 450°C。


溫度分布

加熱板具有優異的溫度分布性與均勻性。


編程功能

2Z-HVS 配備 SIMATIC® 控制器,可直接在設備上編程,也可通過 USB 接口連接電腦進行便捷編程。設備可存儲 20 個程序,每個程序包含 100 個步驟。


冷卻過程

底部加熱板采用主動水冷方式。腔室外殼冷卻需依賴外部冷卻(建議使用閉環水冷系統,配件型號:WC-I)。


特殊設計

工藝腔室周圍設有 360° 玻璃筒,可實時觀察工藝過程。



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2Z-HVS-200 高真空封裝機





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