KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統采用專有的光學技術，可同時測量兩個入射角的散射強度。 它可以捕捉到形貌變化、表面反射率、相位變化和光致發光，從而對各種關鍵缺陷進行自動檢測與分類。KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統為氮化鎵晶圓提供表面和光致發光的缺陷檢測，對氮化鎵位錯、凹坑和孔洞進行檢測和分類，用于氮化鎵反應器的缺陷控制。其功率應用包括基于碳化硅的透明晶圓檢查和晶體缺陷分類，如基面位錯、微管、堆疊層錯缺陷、條形堆疊層錯缺陷、晶界和位錯，以及對三角形、胡蘿卜形、滴落物和劃痕等形貌缺陷進行檢測。

• 檢測寬帶隙材料上的缺陷，包括直徑達200毫米的碳化硅和氮化鎵（襯底和外延)

• 支持各種晶圓厚度

• 對微粒、劃痕、裂紋、沾污、凹坑、凸起、KOH蝕刻、胡蘿卜形與表面三角形缺陷、基平面位錯、堆疊層錯、晶界、位錯和其他宏觀外延干擾進行檢測

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• 襯底質量控制

• 襯底供應商對比

• 入廠晶圓質量控制(IQC)

• 出廠晶圓質量控制(OQC)

• CMP（化學機械拋光工藝）/拋光工藝控制

• 晶圓清洗工藝控制

• 外延工藝控制

• 襯底與外延缺陷關聯

• 外延反應器供應商的對比

• 工藝機臺監控

行業[MTpage]ong>

• 工藝設備監控

• 其他化合物半導體器件

• SECS-GEM

• 信號燈塔

• 金剛石劃線

• 校準標準

• 離線軟件

• 光學字符識別(OCR)

• 光致發光