Model 212 紫外掩膜曝光機

簡要描述：Model 212 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造
一種用于大面積基板的低成本研發工具。這是一款多功能工具，既能適配較小尺寸的基板和掩模，也能輕松升級以處理更大尺寸的基板。適用于封裝、顯示器、有機發光二極管（OLED）、半導體晶圓的研發
其規格與 OAI 200 型臺式掩模對準器相同

產品型號：

所屬分類：Model 212 紫外掩膜曝光機

更新時間：2025-07-04

廠商性質：生產廠家

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Model 212 紫外掩膜曝光機

Model 212 紫外掩膜曝光機

Model212 大面積掩模對準器是一款高性價比的高性能掩模對準器，其采用了 OAI 經行業驗證的組件，正是這些組件使 OAI 在光刻設備行業處于地位。212 型是一款臺式掩模對準器，所需潔凈室空間極小，為大面積基板、液晶顯示器（LCD）、薄膜晶體管、面板級封裝和有機發光二極管（OLED）的研發提供了經濟實惠的選擇。借助 OAI 創新的真空吸盤調平系統，大面積基板（最大可達 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米）能快速、輕柔地實現調平，確保在曝光過程中光刻掩模的精準對準和均勻接觸。該系統可實現 1 微米的分辨率和對準精度。對準模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤，無需專用工具即可便捷使用多種基板和掩模。212 型大面積掩模對準器配備了經過驗證的 OAI 紫外線光源，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈，可提供近紫外、中紫外或深紫外的準直紫外光。雙傳感器光學反饋回路與恒定強度控制器相連，將曝光強度控制在所需強度的 ±2% 以內。

可處理的基板尺寸最大為 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米

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