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微波等離子去膠機是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻...

熱重分析是指在程序控制溫度下測量待測樣品的質量與溫度變化關系的一種熱分析技術，用來研究材料的熱穩定性和組份。熱重分析在研發和質量控制方面都是比較常用的檢測手段，在實際的材料分析中經常與其他分析方法連用，進行綜合熱分析，全面準確分析材料。實驗...

PDC-002等離子清洗機包含PAC、PPC、HPC和SCE，可以滿足實驗室到工業的應用、從低溫處理到帶冷卻處理的應用、從鋁質腔體到石英腔體的應用、從簡單緊湊的設備到可以通過軟件進行延展的應用，等等。該等離子清洗機，作為蝕刻系統，主要用在工...

等離子清洗機真空泵原理是兩個電極之間形成高頻交變電場，用真空泵在裝置的密閉容器中實現一定的真空度隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，區域內氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體。在真空和瞬時高溫狀態下，活性等離子...

Harrick等離子清洗機為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式，可以有效去除表面污染物，避免靜電損傷。在集成電路的制程中，會產生許多種類的污染物，包括氟化樹脂、氧化物、環氧樹脂、焊料、光刻蝕劑等，這些污染物將嚴重影響集成電路及其元器件的可靠...

高功率等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清...

微波等離子去膠機是一個典型的勻膠過程，其中包括滴膠，高速旋轉以及干燥（溶劑揮發）幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態...

在平板顯示產品的制程中，隨著工藝層數的增加和產品精度的提高，光刻制程相比過去顯得越發重要。在光刻制程的過程中，顯影單元作為刻蝕設備的主要單元之一，將曝光區域或未曝光區域進行溶解，以保留另外區域，從而將圖案顯現出來。顯影單元在顯影制程中需循環...

等離子清洗機也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清...

等離子清洗機在清洗時通入工作氣體在電磁場的作用下所激發的等離子與物體表面產生物理反應和化學反應。其中，物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面終被真空泵吸走；化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質，再由真空...