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Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設(shè)計與制造 在半導體行業(yè)，OAI 擁有 40 余年產(chǎn)品研發(fā)和制造經(jīng)驗，以專為研發(fā)及半自動生產(chǎn)設(shè)計的光刻設(shè)備，應對動態(tài)市場日益增長的挑戰(zhàn)。800E 型基于經(jīng)實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造，是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統(tǒng)，在該價格段性能好。對準器搭載 OAI 優(yōu)良光束光學技術(shù)，均勻性佳。

Model 212 紫外掩膜曝光機由OAI設(shè)計與制造 一種用于大面積基板的低成本研發(fā)工具。這是一款多功能工具，既能適配較小尺寸的基板和掩模，也能輕松升級以處理更大尺寸的基板。適用于封裝、顯示器、有機發(fā)光二極管（OLED）、半導體晶圓的研發(fā) 其規(guī)格與 OAI 200 型臺式掩模對準器相同

Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設(shè)計與制造 OAI 系統(tǒng)能夠處理各種常規(guī)形狀和不規(guī)則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內(nèi)可提供均勻的紫外線曝光。